• 高エネルギー電子線照射施設(4〜16 MeV)
  •  電子線型加速器(ライナック)を利用して、4〜16MeV の高エネルギーの電子線を照射することができます。 10MeV のエネルギーで、平均ビーム電流 20μA が標準的な条件です。 ビーム径は約 10mmφですが、電子線スキャナー(振れ幅 30cm)とコンベアー装置を装備しており、 比較的大きい試料に均一に照射することができます。 これにより1分間で 4kGy の照射が行えます。
     電子線を直接照射する他に、制動放射により発生する高エネルギー X線、 さらに光核反応により発生するパルス状の中性子線の利用も可能です。 また逆に、低エネルギーの照射(6MeV以下)では中性子が発生しないため、 ターゲットが放射化せず、管理区域外での取扱が可能です。
    この電子線形加速器を用いて、 材料の照射効果の研究、パルス励起した物質の過渡的な変化を調べる研究、 超微弱ビームの発生と利用、新しいラジオグラフィ法の開発研究などが行われています。

  • 低エネルギー電子線照射施設(60〜600keV)
  •  コッククロフト・ウォルトン型電子線加速器を用いた照射施設で、 最大ビーム電流 500μAでの空気中照射が可能です。 低エネルギーであるため、フィルム状の試料や物質の表面処理に適し、 大面積の試料に対して均一な照射を行うことができます。
     この電子線加速器を用いて、高分子の架橋反応を利用した改質の研究や商品開発、 半導体や人工衛星に使用する新素材の耐放射線性の研究、食品の表面殺菌の研究、 ガラスの表面着色の研究等が行われています。

  • ディスクトロン型イオンビーム加速器
  •  2012年に大阪府立産業技術総合研究所より譲り受けた加速器を現在整備中です。 加速電圧は 1MV未満(950kV)で、放射線管理区域内ではなく、 通常の実験建屋に設置が可能となっています。
     加速イオンは H, He で、RBS 分析と、PIXE 分析が可能です。 また、ビームの二次元スキャンにより平面分析が可能です(イオンビーム径≧1μm)。

    ディスクトロン型イオンビーム加速器紹介資料

  • 利用案内
  • 共同利用により本施設の利用を検討されている方は、こちら → 共同利用
     

  • 施設写真紹介
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    電子線照射装置配置図

    ライナック制御盤

    ライナック第一照射室

    ライナック 遮蔽扉

    第1照射室扉用ロックキー
     

    電子線ライナック
     

    電子線ライナック
    マグネット部

    ライナック加速管
     

    ライナック地下ベルトコンベア
    とスキャナー

    ライナック第3照射室
     

    水冷された
    ライナックビーム口

    電子ビームで溶けた鉛
     

    第3照射室
    放射化物保管設備

    第3照射室
    ターゲット周辺遮蔽体

    第3照射室
    入口遮蔽扉

    コットクロフト・ウォルトン
    電子線加速器制御盤

    第2照射室入口
     

    コットクロフト・ウォルトン
    電子線加速器全景

    コットクロフト・ウォルトン
    電子線加速器加速管

    コットクロフト・ウォルトン
    電子線加速器ターゲット部


    ディスクトロン型
    イオンビーム加速器


    ディスクトロンの外観
     


    ディスクトロン型
    イオンビーム加速器の
    試料ステージと検出器


    問い合わせ:大阪府立大学放射線研究センター 共同利用拠点窓口
       e-mail: toiawase [at] riast.osakafu-u.ac.jp ([at] を@に置き換えて下さい)